第十六届国际阻抗谱协会国际学术会议于2023年9月26日-29日在德国开姆尼兹技术大学举行，我院李华博士应邀参加并做了题为“Effect of Impedance on electrochromic properties of W-doped V₂O₅ films”的邀请报告。

据悉，本次阻抗谱学术研讨会汇聚了来自中国、德国、法国、英国、美国等国家的专家学者共同研讨阻抗谱技术及其在传感器、生物学、光电学等领域应用的相关学术问题。会议期间，与会成员还参观了开姆尼兹技术大学传感器中心实验室，相关专家学者进行了广泛的接触和交流。

此次会议的成功举办增强了中国与德国、法国、英国、美国等传感器工业科技人员的技术交流和合作，对进一步把握传感器材料领域发展现状，追踪新材料与传感器技术交叉学科发展前沿具有积极的意义。